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硅(Si)基片晶体基片|半导体材料 硅片镀膜、通讯、激光光电和红外光学等行业提供高品质、高精度的单晶硅（多晶硅）晶体元器件，以及在产品设计及应用方面为客户提供**的技术支持。 公司产品包括直拉（CZ）单晶硅、区熔（FZ）单晶硅切割片（as cut）以及研磨片（lapped），可根据用户需求，选择合适的材料，并加工成各种形状（圆形，方形，长方形等）。 产品信息： 硅（Si）基片 硅（Si）基片用途：用作半导体材料，大功率晶体管，整流器，太阳能电池等。 晶体结构 面心立方 熔点（℃） 1420 密度 2.4（g/cm3） 掺杂物质 不参杂 掺B 掺P 类 型  N或P 电 阻 率 >1000Ωcm 10-3~40Ωcm 102~104Ωcm E P D ≤100∕cm2 ≤100∕cm2 ≤100∕cm2 氧含量（∕cm3） ≤1~1.8×1018 ≤1~1.8×1018 ≤1~1.8×1018 碳含量（∕cm3） ≤5×1016 ≤5×1016 ≤5×1016 尺寸 10×10mm、15×15mm、Dia50.8mm、Dia76.2mm、Dia100mm可按照客户需求，定制特殊方向和尺寸的基片 厚度 0.3-0.5mm、1.0mm 尺寸公差 <±0.1mm 厚度公差 <±0.015mm特殊要求可达到<±0.005mm） 抛光 单面或双面 晶面定向精度 ±0.5° 边缘定向精度 2°（特殊要求可达到1°以内） 相关产品： 磷化镓（GaP) 磷化铟(InP)晶体基片 砷化铟（InAs）晶体 锑化铟(InSb)晶体基片 KH2PO4晶体 钽酸钾(KTaO3)晶体基片 铌钽酸钾(KTa 1-X NbXO3)晶体基片 氯化钾(KCl)晶体基片 铝酸镧(LaAlO3)晶体基片 钽酸锂(LiTaO3)晶体基片 铌酸锂(LiNbO3)晶体基片 氟化锂(LiF)晶体基片 铝酸锶钽镧（LSAT）晶体基片 镓酸锂(LiGaO2)晶体基片 （进口） 锶镁掺杂镓酸镧（LSGM)晶体 近化学计量比LiNbO3晶体（简写: SLN） 铝酸镁(MgAl2O4)晶体基片 氟化镁(MgF2)晶体基片 氧化镁(MgO)晶体基片 以上产品源于如有其他信息或产品信息咨询我们。 温馨提示：供应产品仅用于科研，不能用于人体！ 小编：wyf 03.23